Комплекс лазерной очистки SEKIRUS OVRC 3000 представляет собой модульную систему, основной элемент которой – лазерный источник SEKIRUS мощностью 3кВт. Ключевым элементом является чиллер CFLBm-3000, обеспечивающий эффективное охлаждение всех компонентов системы.
Внутри корпуса располагается специальная полка, на которой установлен лазерный источник. Над источником размещается модуль электрики, включающий в себя контроллер сварки и чиллера, а также блоки питания. Модульное исполнение обеспечивает удобство обслуживания и возможность модернизации оборудования.
| Лазерная очистка с ручным манипулятором SEKIRUS OVRC 3000 | ||
|---|---|---|
| Номинальная мощность | Вт | 3000 |
| Диапазон регулировки мощности | % | 0…100 |
| Рабочее напряжение сети для подключения аппарата | - | 380 В/ 50-60 Гц/ 50 А |
| Энергопотребление | кВт | 18 |
| Режим работы | - | непрерывный |
| Длина волны лазера | нм | 1080 ± 5% |
| Ширина лазерного поля | мм | 300 |
| Метод охлаждения | - | водяной |
| Длина встроенного кабеля | м | 6/ по запросу до 10 м |
| Допустимая температура окружающей среды | °С | 5...40 |
| Холодопроизводительность чиллера | кВт | 10 |
| Габаритные размеры, Д × Ш × В | мм | 670 х 1100 х 1300 |
| Технические параметры | |
|---|---|
| Тип интерфейса | Волоконно-оптический интерфейс QBH |
| Ширина сканирования | F400: 0-150 мм |
| F600: 0-225 мм | |
| F800: 0-300 мм | |
| Защитное стекло | D30T5 |
| Коллиматорная линза | D16F60 |
| Фокусирующая линза | D20F800/ D20F600/ D20F400 |
| Отражающее зеркало | 20*15,2*T1,6 |
Лазерная очистка SEKIRUS OVRC 3000 предназначена для бесконтактной очистки металлических и некоторых неметаллических поверхностей от окалины, нагара, органических загрязнений, нефтепродуктов и ржавчины.